規(guī)格:齊全
所屬類型:其它原材料
品牌:
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鋁及鋁合金的陽(yáng)極氧化工藝過(guò)程可分為:表面前處理、陽(yáng)極氧化、著色處理(非裝飾性制品可不進(jìn)行著色)及封閉處理。
(1)硫酸陽(yáng)極氧化工藝
普通硫酸陽(yáng)極氧化可獲得厚度為5~20μm、吸附性較好的膜層,該法的槽電壓低、維護(hù)方便,節(jié)約能源、成本較低,允許雜質(zhì)含量范圍較寬。它主要用于鋁件的防護(hù)和裝飾,但不適用于孔大的鑄鋁件、點(diǎn)焊和鉚接組合件。常用的有直流電解和交流電解兩種工藝,直流法采用硫酸100~200gL,陽(yáng)極電流密度為0.8~1.5A/dm2,溫度為l5~25℃,電壓l0~25V,時(shí)間20~40min;交流法采用硫酸l0%~20%,陽(yáng)極電流密度為1~3A/dm2,溫度為20℃,電壓20~50V,時(shí)間20~40min。
(2)硬質(zhì)陽(yáng)極氧化
硬質(zhì)陽(yáng)極氧化又稱厚層陽(yáng)極氧化,氧化膜的厚度可達(dá)250μm。膜層具有硬度大、耐磨、絕緣、耐熱、耐蝕等特點(diǎn)。表7—2列出硬質(zhì)氧化膜與普通氧化膜特征比較。獲得硬質(zhì)陽(yáng)極氧化膜可采用的電解液很多,常用的有硫酸、草酸、丙二酸、蘋(píng)果酸、磺基水楊酸等。常用直流電源,還可采用交流、直流疊加及各種脈沖電流。為了得到硬度高、膜層厚的氧化膜,在氧化過(guò)程中采用壓縮空氣攪拌及較低的溫度,一般保持在一5~+10℃范圍內(nèi)。表7—3列出硬質(zhì)陽(yáng)極氧化工藝規(guī)范。
對(duì)于硫酸硬質(zhì)氧化工藝來(lái)說(shuō),硫酸的濃度對(duì)氧化過(guò)程影響極大,當(dāng)硫酸的濃度較高時(shí),氧化膜的生長(zhǎng)速度慢,氧化膜硬度有所降低,孔隙度大。但濃度較低時(shí),槽液壽命短,零件易被燒壞。為了增加氧化膜的厚度,添加一定量的草酸效果較好,且溶液中不應(yīng)有氯離子和鎢鹽、鎂鹽。
溫度和電流密度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素。溫度上升,膜的厚度下降,溫度還應(yīng)根據(jù)不同的合金來(lái)定。若電流密度太小,氧化膜生成速度緩慢,但過(guò)高時(shí)溫度升高快,使零件產(chǎn)生“腐蝕”而“燒損”。硬質(zhì)氧化的始末電壓與時(shí)間對(duì)氧化膜質(zhì)量也有很大影響,應(yīng)根據(jù)鋁合金成分來(lái)確定。對(duì)于含銅小于2.5%的鋁合金,開(kāi)始電壓為5~7V,不應(yīng)大于10V;對(duì)于含銅大于2.5%又含錳的合金,開(kāi)始電壓為20~24V,終了電壓根據(jù)所需電流密度而定。(3)鉻酸陽(yáng)極氧化
鉻酸陽(yáng)極氧化膜層較薄,大致在2~5μm,膜層較軟有彈性,抗蝕性不如硫酸陽(yáng)極氧化膜,不透明,顏色由灰白至深灰色,不易著色??紫渡?,不用封閉處理。此種氧化膜適用于精密零件,很少作裝飾用。膜層與有機(jī)材料結(jié)合力好,可作為良好的涂裝底層,并廣泛用于橡膠粘接件與蜂窩結(jié)構(gòu)的面板,多用于航空與航天工業(yè)。電解液組成及工藝條件為鉻酐50~100gL,溫度35℃±2℃,槽電壓0~50V,時(shí)間30~60min,陽(yáng)極電流密度(平均)0.3~0.5A/m2,對(duì)于含銅高的鋁合金,溫度可降至25~30℃,電壓0~40V。
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