規(guī)格:其他
所屬類型:其它儀器
品牌:徠卡
Leica EM TIC 3X徠卡三離子束切割儀-全新版本速度翻倍:
Leica EM TIC 3X 徠卡三離子束切割儀,新版比前代產(chǎn)品切割速度提高一倍,實(shí)用性得到大幅提升。離子束切割是通過離子槍激發(fā)獲得的離子束,以垂直于樣品側(cè)面縱向轟擊樣品,可獲得高質(zhì)量無應(yīng)力“切割”截面或拋光面。幾乎適用于任何材質(zhì)樣品,尤其對于硬的、軟的、多孔的、熱敏感、脆性或非均質(zhì)多相復(fù)合型材料,獲得高質(zhì)量樣品表面是特別好的解決方案,便于SEM分析和AFM檢測。其特有的寬場離子束切割系統(tǒng)也適合EDS,WDS,Auger和EBSD分析。觸屏控制,操作簡單,無需特別技巧。根據(jù)需求,靈活選擇載物臺,實(shí)現(xiàn)個性化配置。不僅是高通量實(shí)驗(yàn)室的理想設(shè)備,也適用于委托檢測的實(shí)驗(yàn)室。
訂購熱線:186-0255-6086
Leica EM TIC 3X徠卡三離子束切割儀-關(guān)鍵特征體現(xiàn)優(yōu)勢:
優(yōu)質(zhì)高效更便利 Leica EM TIC 3X徠卡三離子束切割儀技術(shù)參數(shù):
• 相比舊版速度提高一倍,制備質(zhì)量更出色,可同時處理3 個樣品 ,優(yōu)質(zhì)高效
• 優(yōu)化的工作流程可安全、高效地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)
• 制備樣品高品質(zhì)橫切面和拋光表面,用于掃描電鏡 (SEM)、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、
WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研等分析檢測
• 可在室溫或冷凍條件下,實(shí)現(xiàn)樣品表面高品質(zhì)的處理,盡顯樣品內(nèi)部真實(shí)組織結(jié)構(gòu)
• 制備結(jié)果可復(fù)制,對高通量實(shí)驗(yàn)室更加便利
靈活配置個性化解決方案
• 根據(jù)實(shí)際需求,從靈活多樣的載物臺中進(jìn)行個性化選配,滿足高產(chǎn)量處理、委托檢
測等各種需求
• 特別適用于制備標(biāo)準(zhǔn)樣品、高產(chǎn)量處理,及低溫條件下制備熱敏感的樣品,如聚合
物、橡膠或生物材料等
打造環(huán)境控制型工作流程
• 通過配套的 VCT 對接臺接口,實(shí)現(xiàn)對易受環(huán)境影響和低溫樣品提供全流程控制,
如地質(zhì)材料、工業(yè)材料或生物材料等。這些樣品將在惰性氣體/真空/冷凍條件下,
被安全傳送到鍍膜系統(tǒng) EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統(tǒng)
與 Leica EM TXP 協(xié)同效應(yīng)成為標(biāo)準(zhǔn)工作流程
• 使用Leica EM TXP特有的標(biāo)靶面拋光系統(tǒng),對樣品進(jìn)行機(jī)械切割和拋光預(yù)制,為
使用 Leica EM TIC 3X 儀器進(jìn)行后續(xù)技術(shù)處理做好充分準(zhǔn)備
• 對需要精準(zhǔn)定位以及難以制備的樣品,二者協(xié)同效應(yīng),能提供出色的結(jié)果且令處
理變得輕松簡單,成為標(biāo)準(zhǔn)工作流程
可容納大樣品尺寸50x50x10mm,可獲得有效切割截面面積>4x1mm 三把離子槍,離子束能量1keV-10keV,切割速率150μm/h (10keV,50μm切割高度) 離子束處理過程中樣品位置固定,無需偏轉(zhuǎn)運(yùn)動,無投影效應(yīng),熱傳導(dǎo)性好 可進(jìn)行離子束切割或刻蝕,可選擇任意離子槍 真空泵解耦合設(shè)計(jì),無震動傳導(dǎo) 觸摸屏操作面板,直觀、簡易操作,可編程可軟件升級 可選配:液氮制冷冷臺-150°至 30°,25L液氮罐及自動泵,具有自動快速制冷功能 可選配:三樣品臺,可一次連續(xù)處理三個樣品
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